





碳化硅的制造工艺主要包括反应炉冶炼、化学气相沉积(cvd)、物理气相沉积(pvd)等。其中,反应炉冶炼是比较常用的制造方法,通过将硅和碳的粉末混合在一起,在高温下反应制得碳化硅。化学气相沉积和物理气相沉积则是在较低的温度下制备高的碳化硅薄膜。
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